Targets en opdampmaterialen

Edelmetalen worden vaak gebruikt in verdampingstoepassingen. Bij opdampen worden materialen, zoals edelmetaal, in een vacuüm omgeving verdampt. Deze damp slaat vervolgens neer op een ander oppervlak, wat resulteert in een dunne film of coating.

Voor dit proces worden sputter targets of pellets/slugs gebruikt. IAM Drijfhout beschikt over een groot assortiment edelmetaal producten voor gebruik bij verdampingstoepassingen.

Hoge kwaliteit producten van zuiver goud, zilver, palladium of platina voor een optimaal opdampproces

Sputter targets

Sputter targets, ook wel platines genoemd, zijn ronde platte schijfjes beschikbaar in diverse diameters en diktes. Ze worden gebruikt voor het aanbrengen van thin films in coating- en vacuümsystemen, zoals in cleanrooms van nanolabs.

De targets van IAM Drijfhout, gemaakt van puur edelmetaal of edelmetaallegeringen met een hoge zuiverheid van 99,95% of 99,99%.

Meer over sputter targets

Pellets / Slugs van edelmetaal

Edelmetaal pellets zijn cilindervormige stukjes van hoge zuiverheid metalen zoals platina, goud, palladium en zilver, terwijl slugs, ook bekend als granules of grenailles, kleine, onregelmatig gevormde bolletjes van deze metalen zijn.

IAM Drijfhout biedt pellets en slugs in diverse soorten edelmetaal aan als platina, goud, palladium en zilver. Hierbij wordt gewerkt met de zuiverste edelmetalen die een hoge kwaliteit garanderen.

Ontdek onze pellets

Soorten toepassingen

Sputter targets of pellets worden op verschillende manieren gebruikt, om dunne filmafzetting (coatings) van edelmetaal creëren. Twee bekende toepassingen zijn CVD en PVD. Chemische dampdepositie (CVD) speelt een cruciale rol bij de productie van wafers, die vaak worden gebruikt als basismateriaal voor halfgeleider producten als integrated (micro)chips.

Fysische dampdepositie (Physical Vapor Deposition, PVD) is een veelgebruikt proces bij de productie van coatings voor verschillende industriële en commerciële toepassingen. Binnen de PVD zijn er verschillende methodes:

  • Evaporation, opdampen
  • High power impulse magnetron sputtering (HIPIMS), Magnetron sputteren
  • High Target Utalisation Sputtering (HiTUS), sputteren met hoog doelgebruik (plasma)
  • Ion Beam sputtering (IBS), ionenstraal sputteren
  • Reactive sputtering, reactief sputteren (d.m.v. chemische reactie)

Het doel van een dunne film laag edelmetaal aanbrengen

Het aanbrengen van een dunne film laag van edelmetaal op een oppervlak dient verschillende doelen. Eerst en vooral maakt het het oppervlak uitzonderlijk duurzaam en krasbestendig, wat cruciaal is in toepassingen waar een hoge weerstand tegen slijtage vereist is. Ook kan hiermee de elektrische geleidbaarheid van het oppervlak aangepast worden, hetzij verhoogd of verlaagd, afhankelijk van de specifieke behoeften van de toepassing. Verder verbetert zo’n laag de thermische geleidbaarheid van het oppervlak, waardoor het beter bestand is tegen (zeer) hoge temperaturen – een belangrijke eigenschap in omgevingen met extreme hitte. Tenslotte kan deze behandeling ook ingezet worden om de transmissie van signalen te optimaliseren, door deze te verhogen of te verlagen, wat met name van belang is in de elektronica- en communicatiesector.

Waarom IAM Drijfhout?

– Persoonlijk contact en advies over de beste mogelijkheden

– Vakbekwame productie met nauwkeurige afmetingen van producten

– Hoge zuiverheid edelmetaal

Neem contact op