Sputtertargets worden gebruikt om dunne lagen te produceren in depositieprocessen, zoals verdamping, Ion Beam Sputtering (IBS), Physical Vapor Deposition (PVD) en High Target Utilization Sputtering (HiTus). Deze technieken worden onder andere gebruikt voor de productie van halfgeleiders en medische apparatuur.
Dit artikel richt zich op het belang van hoogwaardige edelmetaal sputtermaterialen voor het verbeteren van een groot aantal depositieprocessen en eindproducten.
Tijdens dunne-film depositieprocessen worden sputtertargets gebombardeerd met ionen, om atomen uit te stoten, waardoor een damp ontstaat die het substraat bedekt met een dunne laag van het targetmateriaal. De keuze van het targetmateriaal is cruciaal en beïnvloedt de kwaliteit, hechting en eigenschappen van de dunne film. Edelmetaal targets zoals goud, zilver, rhodium en platina worden om deze reden vaak gebruikt vanwege hun unieke fysische en chemische eigenschappen.
Zo kan het gebruik van hoogwaardige zuivere gouden targets de elektrische geleidbaarheid en corrosiebestendigheid van de afgezette dunne films verbeteren. Aan de andere kant bieden zuivere zilveren targets uitstekende thermische en elektrische geleidbaarheid. Rhodium en platina targets bieden hoge smeltpunten, uitstekende corrosiebestendigheid en robuuste mechanische eigenschappen.
Verdamping:
Verdampingstechnieken bestaan uit het verhitten van een vast materiaal tot de verdampingstemperatuur, waardoor de atomen condenseren en een dunne film vormen op een substraat. Edelmetaaltargets zijn ideaal voor verdampingsprocessen door de hoge zuiverheidsgraad en uitstekende thermische stabiliteit, waardoor de laagdikte en samenstelling nauwkeurig kunnen worden gecontroleerd.
IBS en PVD:
Ion beam sputtering (IBS) en physical vapor deposition (PVD) technieken worden vaak gebruikt voor het afzetten van films met op maat gemaakte eigenschappen. Edelmetaaltargets dienen als grondstof in deze processen en bieden chemische zuiverheid en uniformiteit, wat resulteert in films met superieure eigenschappen. IBS wordt gebruikt in de gezondheidszorg en biomedische industrie, voor nauwkeurige controle over de dikte en uniformiteit van de coatings, om de veiligheid en levensduur van medische apparaten en implantaten te garanderen.
HiTus en reactief sputteren:
HiTus (sputteren bij hoge temperatuur) en reactief sputteren worden gebruikt om lagen met verbeterde hardheid, slijtvastheid of chemische reactiviteit af te zetten. Edelmetaaltargets in combinatie met reactieve gassen stellen onderzoekers in staat om een gecontroleerde filmsamenstelling en nauwkeurige depositiesnelheden te bereiken. Deze techniek wordt veel gebruikt in elektronica en halfgeleiders.
Hoogvermogen impuls magnetron sputteren (HIPIMS):
High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) verbetert conventioneel magnetronsputteren door een hoogvermogen gepulste gelijkspanning toe te passen op de target. Dit resulteert in een verhoogde ionisatie, verbeterde filmeigenschappen, verbeterde doelerosie en nauwkeurige controle over de filmsamenstelling. HIPIMS wordt gebruikt in de lucht- en ruimtevaart en defensie-industrie om de depositie van hoogwaardige films met op maat gemaakte eigenschappen mogelijk te maken.
Bij IAM Drijfhout leveren we edelmetaaltargets van hoge kwaliteit die voldoen aan strenge zuiverheidseisen en uitzonderlijke prestaties leveren. Neem contact met ons op als u advies nodig heeft of voor een offerte.
We recyclen ook gebruikte targets. Lees daar meer over op onze recyclingpagina.
